第八百五十七章 半导体新蓝

被砍的团队无处可去，最终全部来到了沪上微电科。

而为了保障5n之后的工艺发展，光刻机确实需要再往前一步。

也就是二代euv光刻机，最大的变化就是高数值孔径透镜，通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升至少70。

而之所以选择让威尼克来讲这个东西，就是告诉世界阿斯麦真正核心的那批老团队现在都在大风集团，不用指望英特尔收购后的那个阿斯麦了。

从3d复合结构到下一代光刻机，当其他公司还在纠结于如何突破10n工艺的时候，大风集团的半导体新蓝图已经剑指1n工艺。

只要大风集团有这个能力去完成自己的这个蓝图，后面大风集团在半导体领域很可能就会成为后5n时代的绝对王者。

全球半导体唯米国是瞻的格局将彻底改变。

消息一出，欧洲，霓虹国，高丽国半导体企业，尤其是芯片设计企业第一时间跑到大风集团门外排起了长队。

同时，在吃瓜群众的好奇中，媒体爆料，米国芯片公司也来人了。

大家都在好奇，米国现在这么对大风集团，大风集团会做什么反应，是大度的不计较，还是直白的报复。

最终大风集团的回应是：考虑到目前跟米国企业合作的不可控风险性较大，我们需要做深度评估，再考虑是否跟米国企业合作。

大风集团没有直接报复，也没有大度，而是把球踢了回去，米国企业想要跟大风集团合作可以，但是要先拿出你们得态度来。

可问题就是，现在的米国企业也有点身不由己。

那后面事情怎么发展，可就怪不得大风集团了。